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ASML今年将推出首款0.55NA EUV光刻机，售价高达3亿美元。这款光刻机具有超过8nm的分辨率，名为Twinscan EXE:5000，计划在2025年用于芯片量产。ASML CEO Peter Wennink表示，该公司将于今年内推出EXE系列新一代Twinscan EXE:5000的首批产品。虽然ASML高NA光刻机的推出时间比预期晚了两年，但英特尔已经预订了Twinscan EXE:5200，计划从2025年开始使用高NA光刻机进行大规模生产。然而，其他竞争对手如台积电和三星则持观望态度，可能是由于高NA光刻机价格昂贵。高NA光刻机具有更高的分辨率和生产率，能够满足制造更高性能芯片的需求。不过，需要注意的是，高NA光刻机并不会取代市场上的低成本光刻机，后者更适合生产低于7nm工艺的芯片。ASML将在今年推出EXE系列Twinscan EXE:5000光刻机的首批产品，这款光刻机具有0.55 NA，能够达到8nm的分辨率。目前尚未公开相关客户信息，但很有可能是英特尔。英特尔计划在其18A制程节点中使用高NA光刻机，并与ASML签署了合作订单。
来源：https://zhidx.com
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